各位网友，大家好！今天小编分享一篇：功率mos管的作用，功率原理是什么？一文，本文由泰德兰小编收集整理分享，希望通过本文深入学习功率mos管相关技术性问题。1、功率mos管分类MOS管是一种单极性载流子参与导电的半导体器件。根据导电沟道的载流子能够划分为N沟道和P沟道。假定导电沟道的载流子是电子，则称为N沟道；假定载流子是空穴，则称为P沟道。MOS管的导电沟道，能够在制作过程中构成，也能够通过接通外部电源构成，当栅压等于零时就存在沟道（即在制作时构成的）称为耗尽型，在施加外部电压后才构成沟道的称为增强型。依照导电沟道和沟道构成的过程两点来分类，MOS管能够分为：P沟增强型MOS管、P沟耗尽型MOS管、N沟增强型MOS管和N沟耗尽型MOS管。图四类MOSFET和它们的图形符号。功率MOSFET普通很少选用P沟道，由于空穴的迁移率比电子的迁移率低，相同的沟道尺寸，P沟道的晶体管比N沟道的导通电阻大。2、功率mos管工作原理功率MOS管是从小功率MOS管展开来的。但在结构上，它们之间相差很大，为了更好天文解功率MOSFET的机理，首要来回想一下小功率场效应管的机理。以下以N沟道增强型小功率MOSFET的结构来说明MOS管的原理。N沟道增强型小功率MOSFET的结构表示图图1是N沟道增强型小功率MOSFET的结构表示图。N沟道增强型MOS管是把一块低掺杂的P型半导体作为衬底，在衬底上面用分散的方法构成两各重掺杂的N＋区，然后在P型半导体上生成很薄的一层二氧化硅绝缘层，然后在两个重掺杂的N+区上端用光刻的方法刻蚀掉二氧化硅层，暴露N+区，最终在两个N+区的外表以及它们之间的二氧化硅外表用蒸腾或者溅射的方法喷涂一层金属膜，这三块金属膜构成了MOS管的三个电极，分别称为源极(S)、栅极(G)和漏极(D)。MOSFET的特性能够用搬运特性曲线和漏极输出特性曲线来表征。搬运特性是指在漏源之间的电压UDS在某一固定值时，栅极电压UGS与相对应的漏极电流ID之间的关系曲线。图3是某种场效应管的搬运特性。某种场效应管的搬运特性图MOS管的漏极输出特性场效应晶体管的输出特性能够划分为四个区域：可变电阻区、截止区、击穿区和恒流区。可变电阻区（UDS在这个区域内，UDS增加时，ID线性增加。在导电沟道挨近夹断时，增长变缓。在低UDS分开夹断电压较大时，MOS管相当于一个电阻，此电阻跟着UGS的增大而减小。截止区（UGS）击穿区在相当大的漏——源电压UDS区域内，漏极电流近似为一个常数。当UDS加大道必定数值今后，漏极PN结发生击穿，漏电流疾速增大，曲线上翘，进入击穿区。饱满区（UDSUGS-UT）在上述三个区域保卫的区域即为饱满区，也称为恒流区或放大区。功率MOSFET应用在开关电源和逆变器等功率变换中，就是工作在截止区和击穿区两个区。3、功率mos管结构特性图中MOSFET的结构是不合适运用在大功率的场所，缘由是两个方面的。一方面是结构上小功率MOSFET三个电极在一个平面上，沟道不能做得很短，沟道电阻大。另一方面是导电沟道是由外表感应电荷构成的，沟道电流是外表电流，要加大电流容量，就要加大芯片面积，这样的结构要做到很大的电流可能性也很小。为了抑止MOSFET的载流才华太小和导通电阻大的难题，在大功率MOSFET中一般选用两种技能，一种是将数百万个小功率MOSFET单胞并联起来，前进MOSFET的载流才华。别的一种技能就是对MOSFET的结构间断改进，选用一种笔直V型槽结构。图3是V型槽MOSFET结构剖面图。V型槽MOSFET结构剖面图图3V型槽MOSFET结构剖面图在该结构中，漏极是从芯片的反面引出，所以ID不是沿芯片水平方向活动，而是自重掺杂N区（源极S）启航，通过P沟道流入轻掺杂N漂移区，最终笔直向下抵达漏极D。电流方向如图中箭头所示，由于流转截面积增大，所以能通过大电流。在相同的电流密度下，体积也大大减少。好了，泰德兰小编就和大家分享到这里，

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