随着世界能源的消耗增长，对电力的需求越来越大，从智能手机、电动汽车到工业机器人等一切设备都需要更高效率、更致密的功率半导体器件如二极管、绝缘栅双极型晶体管（IGBT）、金氧半场效晶体管（MOSFET）和高电子迁移率晶体管（HEMT）等。宽带隙功率器件使制造更高性能、更可靠的组件成为可能，这些组件可以使功率效率提升并在更高的温度下工作。

制程良率是半导体企业竞争的重要因素，随着先进的半导体设备的制程向更小、更复杂的方向发展，标准化分析与表征已经不足以支持半导体的研发与制造。与此同时，随着半导体器件结构变得越来越复杂，精确定位器件中的缺陷变得越来越困难，需要更多源的加工技术以及更高效的加工手段，并且结合高分辨的成像和微量分析技术来进行全面分析。

功率半导体器件的电性失效、功率半导体器件的物性失效分析等方面，先进电镜的使用会为提高功率器件质量提供快速和准确的方法，配合可靠的工作流程，除了可以帮助厂商提高效率，同时也可以一定程度节省成，可以说电镜是半导体制程中不可忽略的高质量幕后“推手”。

演讲主题：“更快，更深，更全”--高效率双束电镜在半导体量产工业领域的应用

主讲嘉宾：蔡琳玲（赛默飞世尔科技PFA业务拓展经理）

课程简介：双束电镜是半导体工业领域过程控制以及失效分析的重要手段，它可以实现定点位置的快速加工和高分辨SEM成像，而Xe+离子FIB(PFIB)技术有别于传统的Ga+离子，具有更高的束流，可实现高通量的切割和表征，将数据处理时间缩短至数小时而不是以往所需的数天或数周，同时对于第三代半导体，Xe+离子加工技术还可有效避免Ga+污染。此报告将从FIB-SEM的基本原理和前沿技术出发，重点介绍Helios5PFIB在芯片封装、第三代半导体、显示面板等领域的应用优势。

嘉宾简介：蔡琳玲在赛默飞世尔科技担任PFA商务拓展经理，有着10多年电镜技术支持的从业经验，具有坚实的显微镜理论基础以及丰富的实际应用经验，对于电镜产品如何助力于逻辑、存储、化合物半导体、封装以及面板类产品的研发以及良率提升有着持续和深入的研究，对于半导体工业各类样品的的失效分析方法都非常熟悉。基于她丰富的应用经验，她可以为不同行业的客户提供相适应的EFA到PFA的失效解决方案。

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关于赛默飞世尔科技：赛默飞世尔科技在全球商业拥有巨大的影响力，其进入中国发展已近40年，其在中国的总部设于上海，并在北京、广州、香港、成都、沈阳、西安、南京、武汉、济南等地设有分公司，产品主要包括分析仪器、实验室设备、试剂、耗材和软件等，提供实验室综合解决方案，为各行各业的客户服务。

对于半导体制造商和电子行业，其将电气分析解决方案与SEM、TEM、S/TEM、DualBeamFIB/SEM以及高级软件套件结合起来，以最高的成功率和生产率提供根本原因分析。其业界领先的工作流程可以为加速IC设计和生产决策提供快速、准确的解决方案。故障隔离和分析产品提供一流的图像、丰富的功能集、横断面计量和自动化，以加快工艺缺陷识别、减少产量损失和缩短新产品上市时间。

赛默飞世尔科技为电子显微镜和微观分析提供创新的解决方案，通过将高分辨率成像与各种规模和模式的物理、元素、化学和电气分析相结合，通过最广泛的样本类型，让客户完成从问题到获得可用数据的过程。